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成都迪越电子获得场效应晶体管的定位体系专利简化人工定位对位难度

时间: 2025-04-02 18:13:21 |   作者: 军用级设备

详细介绍

  金融界2025年1月7日音讯,国家知识产权局信息数据显现,成都迪越电子技术有限公司获得一项名为“场效应晶体管的定位体系”的专利,授权公告号 CN 222261002 U,请求日期为2024年4月。

  专利摘要显现,本实用新型供给了一种场效应晶体管的定位体系。场效应晶体管的定位体系包含载板、定位工装、散热片以及场效应晶体管:定位工装与载板固定衔接,定位工装具有多个开孔;多个散热片别离嵌入多个开孔中且放置于载板上;多个场效应晶体管别离嵌入多个开孔中,至少一个场效应晶体管放置于散热片背向载板的一侧外表。本请求施行例经过在定位工装上规划多个开孔别离作为MOS管定位槽和散热片躲避槽,经过将MOS管嵌入MOS管定位槽,将散热片嵌入散热片躲避槽,简化了人工定位的对位难度,可有用处理不同MOS管和陶瓷散热片的装置定位难、倾斜的问题,且结构相对比较简单,可根据本身的需求调整规划,易于完成模块化规范出产,进步出产功率、下降出产人工成本。

  天眼查资料显现,成都迪越电子技术有限公司,成立于2023年,坐落成都市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱2000万人民币,实缴本钱1910万人民币。经过天眼查大数据分析,成都迪越电子技术有限公司知识产权方面有商标信息1条,专利信息5条,此外企业还具有行政许可1个。

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